SK 하이닉스 前 직원 체포
삼성전자 전 부사장 패소
해외유출범 최대 12년 선고
최근 엔비디아 훈풍의 영향으로 뜻밖의 수혜를 입은 반도체 업계가 기술 유출 때문에 골머리를 앓고 있는 것으로 알려졌다. 국내 반도체 기업의 쌍두마차로 불리는 SK하이닉스와 삼성전자 역시 이 문제로 현재 소송을 진행 중인 것으로 알려져서 충격이다. 양사에 다니는 내부 직원이 핵심기술을 해외로 빼돌리는 등의 일이 벌어져 업계의 관심이 주목된다.
28일 반도체 업계에 따르면 삼성전자와 SK하이닉스에 기술 유출 사건이 일어난 것으로 알려졌다. 당초 기업에서 기술 유출이 일어나는 것은 종종 찾아볼 수 있을 정도로 선례가 거의 없는 일은 아니다. 그러나 법조계에 따르면 삼성전자의 전 부사장이 삼성전자의 기술을 해외로 빼돌린 혐의를 받는 것으로 알려졌는데, 전직 임원의 기술 유출 사례는 이례적인 경우라 이목이 쏠린다.
법조계에 따르면 지난 27일 검찰은 안승호 전 삼성전자 IP 센터장(부사장)에 대한 구속영장을 재청구한 상태로 알려졌다. 이는 지난해 삼성전자에서 몰래 일본에 회사를 차리고 내부 기밀을 91회 유출해 구속 기소된 ‘특허 브로커’를 수사하는 과정에서 안승호 전 부사장의 혐의가 드러난 것이다. 안승호 전 부사장은 자신의 부하직원이었던 삼성전자 내 특허 담당 직원과 공모해 기밀자료를 유출한 뒤, 이를 자신이 이끄는 ‘시너지 IP’와 삼성전자 사이의 소송에 활용한 것으로 밝혀졌다.
안승호 전 부사장이 이끄는 시너지 IP는 특허 에이전트 회사로, 특허권자인 ‘스테이턴 테키야 LLC’과 함께 삼성전자를 상대로 미국 법원에 무선이어폰과 음성인식 관련 특허침해 소송을 제기한 것으로 알려졌다. 그러나 지난 23일 텍사스 동부지법이 안승호 전 부사장 등이 개입한 소송이 심각한 불법행위와 부정한 방법으로 제기됐다고 판단하며 기각 판결을 내리며 안승호 전 부사장은 특허권 침해 소송에서 패소했다. 이에 서울중앙지검 정보기술범죄수사부의 이춘 부장검사는 안승호 전 삼성전자 부사장에 대해 부정경쟁 방지 및 영업비밀 보호에 관한 법률 위반 등의 혐의로 구속영장을 청구한 것으로 알려졌다.
엔비디아 훈풍의 여파로 ‘28만 하이닉스’를 앞둔 SK하이닉스 역시 기술 유출에 골머리를 앓고 있다. SK하이닉스에서 근무하던 중국 국적의 직원이 반도체의 불량률을 낮추는 핵심 기술을 중국 화웨이로 빼돌린 것이다. 당초 지난 2013년 SK하이닉스에 입사한 해당 직원은 반도체 설계상의 불량을 분석하는 부서에서 줄곧 일하다가 2020년부터 2022년까지 중국 현지 법인의 기업 간 거래 고객 상담 팀장급 직원으로 근무한 것으로 확인됐다. 지난 2022년 SK하이닉스를 퇴사한 해당 직원은 높은 연봉을 받고 화웨이로 이직했는데, 퇴사 직전 핵심 반도체 공정 문제 해결책과 관련한 자료를 A4용지 3천여 장 분량 출력한 것으로 파악되며 혐의가 드러났다.
SK하이닉스의 경우 기술 유출 방지를 위해 USB 등 저장매체 사용을 금지하고 있으며 출력물에 관해서도 내용과 인쇄자, 사용처 등을 상세히 기록해 관리하고 있는데, 해당 직원이 출력한 기록은 남았으나 이를 어디에 사용했는지에 대한 기록이 없었다. 수사당국은 해당 직원이 출력한 문서를 나눠 가방에 담아 빼돌렸을 것으로 추정 중이며, 사건 직후 이상을 감지한 SK하이닉스의 신고에 의해 수사를 진행했다. 현재 해당 직원은 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등의 혐의로 기소되어 수원지법 여주지원에서 재판을 진행 중인 것으로 알려졌다.
그렇다면 이들의 처벌 수위는 어느 정도가 될까? 최근 특허청에서는 영업비밀을 유출할 경우 최대 7년 6개월의 형을, 해외 유출 사범에 대해서는 최대 12년의 형을 선고하겠다고 밝혔다. 이어 오는 8월부터는 영업비밀을 침해할 경우 징벌적 손해배상 한도를 손해액의 3배에서 5배까지 확대하겠다고 전했다.
지난 13일 정부대전청사에서 김시형 특허청장 직무대리는 위 같은 내용을 골자로 하는 ‘기술 보호 대책’ 관련 기자간담회를 열어 “기술 유출 방지를 위한 4중 안전장치가 완성돼 본격 시행에 들어간다”고 말했다. 이는 지난달 23일 방청 업무 규정(대통령령) 개정안이 시행됨에 따라 특허청이 방첩 기관으로 새롭게 지정된 결과로 보인다. 특허청의 경우 기존 국가정보원, 법무부, 관세청, 경찰청, 해양경찰청, 국군 방첩사령부 등 6개 방청 기관과 함께 산업스파이를 잡는 데 동참하게 된 것이다.
산업 기술 유출의 문제는 우리나라 산업의 기반을 흔들 수 있는 중차대한 문제기 때문에 처벌의 수위 역시 높아졌다. 오는 7월 1일부터 기술의 해외 유출에 대한 최대 형량이 기존 9년에서 12년으로 확대되며 집행유예 기분이 강화돼 초범에도 실형이 선고되는 것으로 알려졌다. 김시형 특허청장 직무대리는 이에 대해 “기술 유출 시도가 지속 발생하고 있으나 유출 범죄가 지닌 심각성에 비해 처벌은 미흡한 실정이었다”며 “양형기준을 높여 영업비밀 유출 범죄에 대해 해외 유출의 경우 9년에서 12년으로 늘렸고(국내 유출은 6년에서 7년 6개월), 초범도 곧바로 실형이 선고되도록 집행유예 기준을 강화해 법적 억제력을 높였다”고 밝혔다.
해당 양형기준은 시행일 이후 공소 제기된 사건부터 적용되며 안승호 전 부사장과 SK하이닉스의 기술 유출 직원의 경우 이미 공소가 제기된 바 있기 때문에 기존의 양형기준으로 처벌받을 것으로 전망된다.
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